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촉매기준 에칭기술 장치 (CARE 장치)
작성자 관리자
날짜 2026-02-23 16:16:07
조회수 18
LN/LT/Si 웨이퍼의 기능성 재료를 원자 스케일로 평탄화 작업이 가능한 장치로 0.1nm이하의 원자 수준에서 매끄러운 표면이 요구되는 반도체 재료에 최적인 장치 입니다.
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제품의 특징
- ◆ 촉매 기능을 가진 패드를 통해 순수만으로 다양한 재료 대응.
- ◆ 원자 스케일의 평탄화 가능.
제품의 활용사례
- ◆ SAW 필터용의 LT/LN 웨이퍼의 제조기술에 적용.
- ◆ Si/SiO2 웨이퍼에도 적용, 시험 평가중.
